エンジニアのための技術講座

表面処理技術講座

掲載日:2011年06月03日

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第496回 フォトエレクトロフォーミング-4

(7')フォトレジストの塗布方法(続き)

 基板がガラスの場合、フォトレジストとの密着性を改善するため、ガラス基板表面にクロム等の金属を蒸着したり、シラン系カップリング剤を塗布します。

 フォトレジスト塗布後、溶剤を除去し乾燥させるために60~90℃で、赤外線ランプや熱風乾燥が行われますが、急速に乾燥すると表面だけが乾燥して、後で発泡してピンホールが生じたり、密着性が低下します。【図1】に掛け流し法、【図2】に回転法、【図3】に浸漬法を示しました。

【図1】掛け流し法

【図2】回転法【図3】浸漬法

(8)露光と現像

 感光性皮膜を処理した基材の上にネガフィルムを重ね、マスクとの密着性を良くするために真空密着式の露光器に入れて露光します。

 露光用光源は、カーボンアーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、レーザー光等を用います。

 フォトレジストの感光領域は紫外部から可視部までで、露光は塗布レジスト面、原版乳剤面を真空密着して行います。真空密着式露光器を【図4】に示します。

【図4】真空密着式露光器

 感光の終った基材は現像処理を行います。不感光部分は溶解除去され、感光部分は硬化した不溶解性の膜となって基材に固着します。これにより非電着面を電解液から保護するために、所定の形状に合わせた形状の非電着面に耐溶解性の保護皮膜が形成されることになります。

 現像液は無機アルカリ系現像図4液も使われますが、有機アルカリ系現像液が使われることが多いようです。現像液の温度は現像速度に影響するので、温度調節を行います。

 現像は、現像液による浸漬法、有機溶剤の蒸気にさらして洗い落す蒸気法、現像液をスプレーガンで吹き付けるスプレー法等があります。

 現像後、フォトレジストの残留溶剤を完全に除去し、密着性や耐薬品性を向上させるために熱風や赤外線ヒーターにより60~90℃で熱処理します。(ベーキング)

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